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摘è¦:¼„›_Œ–¼‹…ä¼ ¾lŸçš„å‡è–„抛光æ–ÒŽ(gu¨©)³•è¡¨é¢è´¨é‡è¾ƒå·®,去除效率很低。超声æ‡L—电(sh¨´)化å¦æŠ›å…‰æ˜¯ç»“åˆäº†ç”?sh¨´)化å¦æŠ›å…‰ä¸Ž‘…声波辅助抛光的å¤åˆæŠ›å…‰æŠ€æœ? 通过实验‹¹‹è¯•å…ähœ‰æ•ˆçŽ‡é«˜ï¼ŒæŠ›å…‰è¡¨é¢è´¨é‡å¥½çš„特点ã€?/span>
哈尔滨工业大å?nbsp;| å™ä¸™é•?nbsp;
¼„›_Œ–¼‹…是½W¬ä¸‰ä»£åŠå¯ég½“ææ–™,å…ähœ‰ä¼˜è‰¯çš„电(sh¨´)性能与物ç†åŒ–å¦æ€§èƒ½ã€‚åŒæ—?¼„›_Œ–¼‹…也是一¿U超¼‹¬ææ–?å…ähœ‰è„†æ€§å¤§ã€å¯¹¾~ºé™·æ•æ„Ÿã€æŠ—冲击性差ã€åŒ–å¦æƒ°æ€§æžå¼ºçš„特点,å› æ¤åŠ 工隑ֺ¦å¾ˆå¤§ã€‚ä¼ ¾lŸçš„¼‚¨å‰Šæ–ÒŽ(gu¨©)³•èŽ·å¾—的表é¢è´¨é‡è¾ƒå·?çŽ°è¡Œçš„å‡ ¿U精密抛光方法则去除率很低。超声æ‡L—电(sh¨´)化å¦æŠ›å…‰æ˜¯ç»“åˆäº†ç”?sh¨´)化å¦æŠ›å…‰ä¸Ž‘…声波辅助抛光的å¤åˆæŠ›å…‰æŠ€æœ?åœ¨æ¨¡å…·åŠ å·¥é¢†åŸŸå·²å–å¾—æ˜¾è‘—çš„ç ”½I¶æˆæž?但目å‰å°šæœªæœ‰ž®†è¯¥æŠ€æœ¯åº”用于¼„›_Œ–¼‹…åŠ å·¥çš„ç ”ç©¶ã€‚é€šè¿‡å¯¹ç¢³åŒ–ç¡…‘…声波—电(sh¨´)化å¦æŠ›å…‰˜q‡ç¨‹çš„æµåœºã€ç”µ(sh¨´)åœÞZ»¿çœŸåˆ†æžä¸Žå®žéªŒç ”究,论文探烦了该æ–ÒŽ(gu¨©)³•å®žçŽ°¼„›_Œ–¼‹…高效去除的å¯è¡Œæ€?获得了ä¸åŒå·¥è‰ºå‚æ•°å¯¹ç ”æŠ›æ•ˆæžœçš„åª„å“规å¾?对碳化硅高效‘…ç²¾å¯†åŠ å·¥å…·æœ‰é‡è¦çš„ç†è®ºå’ŒæŒ‡å¯¼æ„义。首先进行æµåœÞZ»¿çœŸåˆ†æž?针对ä¸åŒçš„ç ”æŠ›å˜é‡?利用Fluent软äšg建立了三¿Uä¸åŒçš„仿真模型;åˆ†åˆ«ç ”ç©¶‘…声振动ã€æµä½“膜厚度与抛光垫打å”å¯ÒŽ(gu¨©)µåœºçš„速度ã€åŽ‹åŠ›ä¸Žæ°”相分布½{‰ç‰¹å¾çš„å½±å“规律。结果显½C?‘…声振动ä¼?x¨¬)ä‹É试äšg表é¢çš„æµä½“剧烈å˜åŒ?产生æžå¼ºçš„剪切æµä¸Žé«˜åŽ‹ä½œç”?‹¹ä½“膜厚度越ž®?ç ”æŠ›è¡¨é¢æ‰¿å—的压力越å¤?剪切‹¹è¶Šå¼?åŠ å·¥æ•ˆæžœ‘Šå¥½;抛光垫上的å°å”会(x¨¬)é˜È¢è¯•äšg表é¢çš„æµä½“æµåŠ?使æµåœºçš„压力出现å°é˜¶å˜åŒ–,有利用超声空化的产生。然åŽè¿›è¡Œç”µ(sh¨´)场分æž?利用Ansoft Maxwell软äšg,åˆ†åˆ«ç ”ç©¶ç ”ç£¨æ¶²ç”µ(sh¨´)导率ã€æµä½“膜厚度与试件æ料对ç”?sh¨´)场分布的媄å“规律。结果表æ˜?ç”?sh¨´)压通过试äšgæ—¶åƈä¸å‡»½I¿è¯•ä»¶å†…éƒ?而是ç”׃¾§é¢å‘ä¸‹ä¼ å¯?éšç€ç ”磨液电(sh¨´)导率å‡é«˜,试äšg表é¢çš„电(sh¨´)‹¹å¯†åº¦çº¿æ€§å¢žå¤§ä¸”效果显著;‹¹ä½“膜厚度的å˜åŒ–对试件表é¢çš„ç”?sh¨´)场分布影å“很å°?在一定范围内,‹¹ä½“膜厚度越ž®?表é¢ç”‰|µ‘Šé«˜;在相åŒçš„仿真模型ä¸?¼„›_Œ–¼‹…è¯•ä»¶åœ¨ç ”æŠ›è¡¨é¢çš„电(sh¨´)‹¹å¯†åº¦æ¯”é“ã€é“œ½{‰è‰¯å¯ég½“é™ä½Žäº†çº¦20%。最å?è‡ªä¸»ç ”åˆ¶‘…声波—电(sh¨´)化å¦ç ”抛实验æœ?实现‘…声辅助ã€ç”µ(sh¨´)åŽ‹åŠ è½½ä¸Žå®žæ—¶æ•°æ®é‡‡é›†ã€‚通过¾pÕdˆ—ç ”ç£¨ä¸ŽæŠ›å…‰å®žéª?获得了超声辅助ã€å¤–åŠ ç”µ(sh¨´)åŽ‹ä¸Žç ”ç£¨æ¶²ç»„åˆ†å¯¹¼„›_Œ–¼‹…摩擦磨æŸæ€§èƒ½çš„媄å“è§„å¾‹ã€‚å®žéªŒç ”½I¶è¡¨æ˜?试äšgå¯¹ç ”æŠ›ç›˜çš„æ‘©æ“¦ç³»æ•îC¸»è¦å–å†³äºŽç ”ç£¨æ¶²çš„æˆåˆ†,相åŒæ¡äšg下金刚石æ‚(zh¨¨n)¬æÕQ液å¯ä½¿SiC试äšg去除最å¿?å‘è¯•ä»¶æ–½åŠ æ£ç”?sh¨´)压与超声辅助都能æ高æ料去除çŽ?但ä¸èƒ½æ”¹å˜æ‘©æ“¦ç³»æ•?‘…å£°æŒ¯åŠ¨å¯¹ç ”æŠ›è¿‡½E‹çš„å½±å“大于ç”?sh¨´)场的作ç?通过‘…å£°æŒ¯åŠ¨ä¸Žå¤–åŠ ç”µ(sh¨´)场的辅助,åœ?0N压力ä¸?以金刚石æ‚(zh¨¨n)¬æÕQ液äØ“(f¨´)ç ”æŠ›æ¶?获得SiC试äšgçš„æœ€é«˜ç ”¼‚¨åŽ»é™¤çŽ‡ä¸?5.7mg/h,åœ?0N压力ä¸?SiC试äšg的最高抛光去除率ä¸?.21 mg/hã€?/span>